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北方华创14纳米 Hardmask PVD设备成功进入国际主流生产线验证

发布时间：2017-09-28 15:30

日前，北方华创微电子自主开发的14纳米 Hardmask PVD（硬掩模物理气相沉积）设备成功进入国际主流集成电路生产线验证，这是北方华创微电子继14纳米刻蚀机、单片退火设备之后，又一种14纳米集成电路设备进入工艺验证阶段。

TiN Hardmask PVD是集成电路制程中的一道重要工艺步骤，北方华创微电子基于多年集成电路PVD设备技术积累，针对性开发了exiTin Ⅱ H430 PVD设备，用于14 纳米TiN Hardmask薄膜沉积工艺，设备以全新的设计理念实现了多项技术突破。

作为中国集成电路制造设备的先行者，北方华创微电子秉持以客户需求为导向的持续创新理念，深耕发展，开拓创新，不断为集成电路产业提供设备技术支撑。

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